УСТАНОВКА ХИМИЧЕСКОГО ТРАВЛЕНИЯ

Установка предназначена для травления полупроводниковых пластин в объеме водных технологических растворах. В составе установки ванна ультразвуковой обработки, две ванны травления и две ванны финишной промывки изделий. Обработка пластин проводится в групповых кассетах ручным их перемещением по рабочим позициям.

Питание установки осуществляется от трехфазной (4-х проводной) с нулевым проводом сети переменного тока и напряжением 220 В, 50Гц. Требование безопасности - наличие контура заземления на производственном участке. Максимально потребляемая электрическая мощность – 2 кВт.

Технические характеристики

Время непрерывной работы установки не менее 8 часов.

Максимальная электрическая мощность, потребляемая установкой - не более 2 кВт.

Гарантийный срок эксплуатации установки 12 месяцев с даты ввода в эксплуатацию

Фотогаллерея

Остались вопросы ?

Оставьте заявку наши специалисты свяжутся с Вами и ответят на все ваши вопросы

Нажимая на кнопку "Отправить", вы даете согласие на обработку персональных данных и соглашаетесь c политикой конфиденциальности